$阿斯麦 (ASML.US)$ 在上个月的ITF大会上，比利时微电子研究中心iMEC，也就是半导体行业的中流砥柱，宣布了...

在上个月的ITF大会上，比利时微电子研究中心iMEC，也就是半导体行业的中流砥柱，宣布了一个蓝图，即在2025年之后，晶体管将进入埃米茨级尺度（A，埃米茨，1埃米茨=0.1纳米），其中2025年对应A14（14A=1.4纳米）。到2027年，将出现A10（10A=1纳米），到2029年，将出现A7（7A=0.7纳米）。

当时，iMEC表示，除了新的晶体管结构和2D材料外，一个关键环节是高数值孔径（High NA）的EUV光刻机。根据公司的说法，0.55NA下一代EUV光刻机I（EXE:5000）将于2023年由ASML供应给iMEC，并将于2026年开始大规模生产。

然而，本月向媒体发言时，ASML似乎暗示了一个较早的时间表。首台高数值孔径的EUV光刻机将于2023年提供初期访问，并于2024-2025年供客户开发使用，到2025年开始大规模生产。