b34r : 有链接吗？想想我们大多数人对高 NA EUV 激光雕刻机不熟悉。特别是因为它是世界上第一个。
Huang邵黄 楼主 : 登录avatar 好友对你说：我在moomoo读到一篇好文章，一起看看吧~英特尔 (INTC.US)30.190+0.20%英特尔 (INTC.US)30.190+0.20%英特尔 (INTC.US)30.190+0.20%EUV光刻，英特尔公布新进展，另一秘密武器曝光
Huang邵黄 楼主 : 如果您希望可以时常见面，欢迎标星 收藏哦~这两天，围绕着光刻机有很多新闻。一则是ASML表示，又卖出了一台下一代的High NA EUV光刻机，这个数值孔径为0.55的新设备被认为是生产1nm以下芯片的必备设备；另一个新闻是ASML在官方x表示，公司的下一代EUV光刻机已经创造了一个里程碑。如图所示，ASML表示：“我们在Veldhoven的高数值孔径EUV系统打印了有史以来第一个10纳米密集线。成像是在光学器件、传感器和载物台完成粗略校准后完成的。接下来：使系统达到最佳性能。并在该领域取得相同的结果
b34r : 有链接吗？想想我们大多数人对高 NA EUV 激光雕刻机不熟悉。特别是因为它是世界上第一个。
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好友对你说：
我在moomoo读到一篇好文章，一起看看吧~
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EUV光刻，英特尔公布新进展，另一秘密武器曝光
Huang邵黄 楼主 : 如果您希望可以时常见面，欢迎标星 收藏哦~
这两天，围绕着光刻机有很多新闻。
一则是ASML表示，又卖出了一台下一代的High NA EUV光刻机，这个数值孔径为0.55的新设备被认为是生产1nm以下芯片的必备设备；另一个新闻是ASML在官方x表示，公司的下一代EUV光刻机已经创造了一个里程碑。
如图所示，ASML表示：“我们在Veldhoven的高数值孔径EUV系统打印了有史以来第一个10纳米密集线。成像是在光学器件、传感器和载物台完成粗略校准后完成的。接下来：使系统达到最佳性能。并在该领域取得相同的结果