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東京応化工業:10 nmの限界を突破!線幅7.6 nmの半導体微細加工を可能にする高分子ブロック共重合体の開発に成功

东京应化工业:突破了10纳米的极限!成功开发了能够进行7.6纳米线宽的半导体微细加工的高分子块共聚体。

日本交易所 ·  08/22 01:00
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