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日媒:中國晶片實力已落後台積電(TSM.US)3年

日媒:中国晶片实力已落后台积电(TSM.US)3年

AASTOCKS ·  08/27 21:16

《日本经济新闻》报道,日本半导体调查企业TechanaLye社长清水洋治表示,中国晶片实力已达到落后台积电(TSM.US)3年水平。

报道对比今年4月上市华为智能手机Pura 70 Pro应用处理器「麒麟9010」,以及2021年高端手机应用处理器「麒麟9000」的电路图,两者分别由中芯(00981.HK)及台积电量产。中芯7纳米晶片面积为118.4平方毫米,台积电5纳米晶片则为107.8平方毫米,面积未有太大差异,处理性能基本相同。虽在良品率上有差距,但中芯实力已追赶到落后台积电3年,且显示设计该两款晶片的海思半导体,其设计能力有提高。

清水洋治认为,美国政府的管制仅略为减慢中国的技术创新,但推动中国半导体产业自主生产。

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