ASML VS X 射線輻射？

利用極端紫外線的力量，將 EUV 平版印刷品帶到市場， $阿斯麥(ASML.US)$ 20 多年來一直持續投資研發，以迎接不斷出現的困難技術挑戰，現在它成為世界各地先進鑄造廠的核心設備。公司，例如 $台積電(TSM.US)$ , $三星電子(ADR)(SSNGY.US)$ 和 $英特爾(INTC.US)$ 正在爭取這些平版印刷機，以開發自己的芯片，但是先進技術制裁清單上的某些國家不允許購買這些產品，例如俄羅斯。

ASML 開發的平版印刷機為極紫外線（EUV），波長 13.5 nm，而俄羅斯計劃開發光刻機 X 射線技術波長介於 0.01 nm 至 10 nm 之間，比 EUV 極紫外線短，因此平版畫解析度更高。

俄羅斯對光刻技術的研究可追溯到 1980 年代中旬，當時俄羅斯開始開發同步 X 射線輻射源。這項技術顯然是由具有遠見的科學家開發的，以滿足微電子處理的需求，但計劃並未實施。