NVIDIA 在 ASML，台積電和新思科技公司的芯片製造方面取得了突破

NVIDIA 的 GTC 開發人員大會剛剛結束，並在人工智能（AI）的所有嗡嗡聲中， 該公司表明，它已經在芯片製造方面取得了突破。 這一進展也受到包括 ASML，TSMC 和 Synopsys 在內的半導體領導者的歡迎，因為當前過程達到物理學極限時，它為計算微影領域帶來了加速計算。 $台積電(TSM.US)$ $英偉達(NVDA.US)$

這項突破使用 NVIDIA GPU 為計算光刻帶來加速運算，使上述業界領導者能夠加速下一代晶片的設計與製造。被稱為 Culitho，新的軟件庫承諾芯片設計開發時間的指數加速。

Culitho 還可以減少晶片晶圓廠資料中心的碳足跡，並可突破尖端半導體設計的界限。到目前為止，NVIDIA Culitho 已經被世界頂級芯片代工廠，台積電，領先的 EDA 芯片設計工具公司新思科技和芯片製造設備製造商 ASML 採用。

該平台背後的想法是將複雜且計算昂貴的過程中卸載並並行化，這些過程產生微影機器用於將奈米級特徵（例如電晶體或電線）蝕刻到矽晶圓中的光罩。

NVIDIA 創始人兼執行長 Jensen Huang 在 GTC 年度開發人員會議上的主題演講中表示：「隨著微影在物理極限下，NVIDIA 推出 CuLiSo 以及與我們的合作夥伴台積電、ASML 和 Synopsys 合作，使晶圓廠能夠提高產能、減少碳足跡，並為 2nm 及以上的基礎奠定基礎。」 $3倍做多半導體ETF-Direxion(SOXL.US)$