b34r : 有鏈接嗎?想我們大多數人都不熟悉高 NA EUV 激光雕刻機。尤其是因為它是世界上第一個。
Huang邵黄 樓主 : 登錄avatar 好友對你說:我在moomoo讀到一篇好文章,一起看看吧~英特爾 (INTC.US)30.190+0.20%英特爾 (INTC.US)30.190+0.20%英特爾 (INTC.US)30.190+0.20%EUV光刻,英特爾公佈新進展,另一祕密武器曝光
Huang邵黄 樓主 : 如果您希望可以時常見面,歡迎標星 收藏哦~這兩天,圍繞着光刻機有很多新聞。一則是ASML表示,又賣出了一臺下一代的High NA EUV光刻機,這個數值孔徑爲0.55的新設備被認爲是生產1nm以下芯片的必備設備;另一個新聞是ASML在官方x表示,公司的下一代EUV光刻機已經創造了一個里程碑。如圖所示,ASML表示:“我們在Veldhoven的高數值孔徑EUV系統打印了有史以來第一個10納米密集線。成像是在光學器件、傳感器和載物臺完成粗略校準後完成的。接下來:使系統達到最佳性能。並在該領域取得相同的結果
b34r : 有鏈接嗎?想我們大多數人都不熟悉高 NA EUV 激光雕刻機。尤其是因為它是世界上第一個。
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好友對你說:
我在moomoo讀到一篇好文章,一起看看吧~
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EUV光刻,英特爾公佈新進展,另一祕密武器曝光
Huang邵黄 樓主 : 如果您希望可以時常見面,歡迎標星 收藏哦~
這兩天,圍繞着光刻機有很多新聞。
一則是ASML表示,又賣出了一臺下一代的High NA EUV光刻機,這個數值孔徑爲0.55的新設備被認爲是生產1nm以下芯片的必備設備;另一個新聞是ASML在官方x表示,公司的下一代EUV光刻機已經創造了一個里程碑。
如圖所示,ASML表示:“我們在Veldhoven的高數值孔徑EUV系統打印了有史以來第一個10納米密集線。成像是在光學器件、傳感器和載物臺完成粗略校準後完成的。接下來:使系統達到最佳性能。並在該領域取得相同的結果