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東京応化工業:10 nmの限界を突破!線幅7.6 nmの半導体微細加工を可能にする高分子ブロック共重合体の開発に成功

東京應化工業:突破了10納米的限制!成功開發出能夠進行7.6納米半導體微細加工的高分子塊共聚物。

日本交易所 ·  08/22 01:00
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