證券之星消息，根據企查查數據顯示中微公司（688012）新獲得一項發明專利授權，專利名爲“一種用於超深寬比刻蝕的等離子反應器及其刻蝕方法”，專利申請號爲CN201910107649.6，授權日爲2024年7月5日。
專利摘要：本發明公開了一種用於超深寬比刻蝕的等離子反應器及其刻蝕方法，包括：反應腔，所述反應腔內形成反應空間；反應空間底部包括一個基座，用於支撐處理基片；反應腔內頂部包括一氣體噴淋頭；第一射頻電源輸出具有第一頻率的射頻功率到基座或氣體噴淋頭，以形成並維持反應腔內的等離子體；第二射頻電源輸出具有第二頻率的射頻功率到基座，以控制入射到基片的離子能量；所述第一頻率大於等於4MHz，第二頻率大於等於10KHz小於等於300KHz。
今年以來中微公司新獲得專利授權76個，較去年同期增加了2.7%。結合公司2023年年報財務數據，2023年公司在研發方面投入了8.17億元，同比增34.91%。
數據來源：企查查
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