證券之星消息，根據企查查數據顯示中微公司（688012）新獲得一項發明專利授權，專利名爲“等離子體處理裝置及其工作方法”，專利申請號爲CN202011004465.6，授權日爲2024年7月5日。
專利摘要：本發明公開了一種等離子體處理裝置及基片處理方法，所述裝置包括：反應腔，其頂部具有開口，其內底部設置基座，所述基座用於承載待處理基片；安裝基板，坐落於所述開口內；氣體噴淋頭，位於所述安裝基板的下方，且與基座相對設置；電極，位於所述安裝基板與氣體噴淋頭之間；絕緣層，分別位於所述安裝基板與電極、以及氣體噴淋頭與電極之間；直流電流，與所述電極電連接，以使所述氣體噴淋頭吸附在安裝基板上。本發明改善了氣體噴淋頭與後續電極的物理接觸，從而更好的對氣體噴淋頭進行溫度控制，降低了安裝的複雜性。
今年以來中微公司新獲得專利授權79個，較去年同期增加了6.76%。結合公司2023年年報財務數據，2023年公司在研發方面投入了8.17億元，同比增34.91%。
數據來源：企查查
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