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光刻机(胶)概念8日主力净流出2.86亿元,张江高科、晶方科技居前

光刻機(膠)概念8日主力淨流出2.86億元,張江高科、晶方科技居前

金融屆 ·  07/08 03:37

7月8日,光刻機(膠)概念下跌2.31%,今日主力資金流出2.86億元,概念股6只上漲,70只下跌。

主力資金淨流出居前的分別爲張江高科(4202.44萬元)、晶方科技(3801.87萬元)、大族激光(2607.98萬元)、飛凱材料(2464.12萬元)、百川股份(2414.84萬元)。

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