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奥普特获得实用新型专利授权:“一种出光均匀的光源及机器视觉设备”

奧普特獲得實用新型專利授權:“一種出光均勻的光源及機器視覺設備”

證券之星 ·  07/09 14:22

證券之星消息,根據企查查數據顯示奧普特(688686)新獲得一項實用新型專利授權,專利名爲“一種出光均勻的光源及機器視覺設備”,專利申請號爲CN202323345733.2,授權日爲2024年7月9日。

專利摘要:本實用新型公開了一種出光均勻的光源及機器視覺設備,光源包括:第一燈板,所述第一燈板上均勻分佈有第一燈珠;第二燈板,所述第二燈板與第一燈板之間呈角度設置;所述第二燈板上均勻分佈有第二燈珠,所述第二燈珠與所述第一燈珠呈交錯佈置。通過使第一燈板和第二燈板呈角度設置,並使第一燈珠和第二燈珠交錯佈置,以提高燈板出射光線的均勻度。

今年以來奧普特新獲得專利授權76個,較去年同期增加了35.71%。結合公司2023年年報財務數據,2023年公司在研發方面投入了2.02億元,同比增5.88%。

數據來源:企查查

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