證券之星消息，根據企查查數據顯示大立科技（002214）新獲得一項實用新型專利授權，專利名爲“一種半導體激光器散熱裝置”，專利申請號爲CN202323347728.5，授權日爲2024年7月19日。
專利摘要：本實用新型涉及一種半導體激光器散熱裝置，屬於激光器散熱技術領域，解決了現有技術中激光器無法在較寬溫度範圍工作的問題。本實用新型提供一種半導體激光散熱裝置，包括散熱器、相變材料、加熱膜和風扇；散熱器安裝於半導體激光器下部，與半導體激光器散熱面緊密貼合；散熱器設置有密封圈槽和密封圈，密封圈嵌入密封圈槽內，用於與半導體激光器散熱面密封；散熱器設置有翅片，翅片邊緣設置有翅片開口；相變材料設置於密封圈槽內，用於降低熱阻；加熱膜纏繞於翅片開口，用於較低溫度時加熱；風扇安裝於翅片下部。本實用新型能實現高溫時加快散熱、低溫時加熱，使激光器可以在寬溫度範圍工作，提高激光器工作效率。
今年以來大立科技新獲得專利授權12個，較去年同期增加了33.33%。結合公司2023年年報財務數據，2023年公司在研發方面投入了1.98億元，同比增4.29%。
數據來源：企查查
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