share_log

光刻机(胶)概念24日主力净流出9.51亿元,晶方科技、张江高科居前

光刻機(膠)概念24日主力淨流出9.51億元,晶方科技、張江高科居前

金融屆 ·  07/24 03:41

7月24日,光刻機(膠)概念下跌2.86%,今日主力資金流出9.51億元,概念股7只上漲,69只下跌。

主力資金淨流出居前的分別爲晶方科技(1.69億元)、張江高科(1.05億元)、雅克科技(8851.15萬元)、藍英裝備(7608.53萬元)、南大光電(5903.07萬元)。

声明:本內容僅用作提供資訊及教育之目的,不構成對任何特定投資或投資策略的推薦或認可。 更多信息
    搶先評論