08月02日，光刻机概念盘中跳水，截至14点14分，光刻机概念整体指数下跌3.05%，报1444.990点。
从个股上来看，该概念的成分股中，京华激光跌3.42%，新莱应材、大族激光、张江高科跌幅居前。
从资金上来看，截止发稿，光刻机概念主力净流入为-3.60亿，其中奥普光电受到资金热捧，主力净流入1980.22万；拉长时间线来看，该板块近20日主力资金净流入-19.98亿。
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08月02日，光刻機概念盤中跳水，截至14點14分，光刻機概念整體指數下跌3.05%，報1444.990點。
從個股上來看，該概念的成分股中，京華激光跌3.42%，新萊應材、大族激光、張江高科跌幅居前。
從資金上來看，截止發稿，光刻機概念主力淨流入爲-3.60億，其中奧普光電受到資金熱捧，主力淨流入1980.22萬；拉長時間線來看，該板塊近20日主力資金淨流入-19.98億。
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