ACM Research Inc是一家總部位於美國的公司。公司從事開發、製造和銷售單晶圓溼式清潔設備,用於半導體制造商在製造集成電路或芯片的許多製造步驟中去除顆粒、污染物和其他隨機缺陷,以提高產品產量。該公司提供空間交替相移,利用超聲波的交替相將超聲波能量傳遞到微觀水平的平面和圖案晶圓表面,同時及時激活氣泡振盪技術,爲傳統的二維和三維圖案晶圓在工藝節點上提供有效,無損傷的清潔。
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