2nmのマイクロ加工技術は、ウエハー市場において長期的な競争において成功か失敗かを決定することができる重要な技術と考えら...

2nmのマイクロ加工技術は、ウエハー市場において長期的な競争において成功か失敗かを決定することができる重要な技術と考えられています。 $タイワン・セミコンダクター・マニュファクチャリング(TSM.US)$ , $SAMSUNG EL 144(SSNGY.US)$、そして $インテル(INTC.US)$同じくウエハー市場において長期的な競争において成功か失敗かを決定するために、サムスン電子は今年上半期から3ナノマイクロプロセッサ半導体を製造する予定であり、TSMCは今年下半期から3ナノをベースとした半導体量産計画を検討しています。

同じくウエハ市場において長期的な競争において成功か失敗かを決定するために、サムスン電子は今年上半期から3ナノマイクロプロセッサ半導体を製造する予定であり、TSMCは今年下半期から3ナノをベースとした半導体量産計画を検討しています。

一方、インテルは現在の10nmプロセスを使用しながら、2024年に2nmプロセスを開発することを目標にしたR＆Dを継続することを決定し、先進的なプロセスについてはサムスン電子やTSMCに遅れをとってしまった場合に備えてTSMCに依頼することにしました。

結局のところ、3つの半導体ファウンドリ企業の間の高度技術競争は、2nmプロセスの開発と導入時から繰り広げられています。

その中で、インテルとTSMCが2nmプロセス技術の開発に協力を進める場合、サムスン電子は彼らの同盟に一人で立ち向かわなければならず、競争において不利な地位にあることは避けられません。