最近、精密計測電子（300567）の子会社である上海精密セミコンダクターは、中国最大のウェーハメーカーの1つである中国東部の主要顧客に、光学形態測定TG™ シリーズのTG 300IF機器を納入する新製品納入式を再び開催しました。TG 300IFは、独自の性能上の利点により、シリコンウェーハの形態測定の分野への参入に成功し、国内の半導体製造分野におけるそのような機器のギャップを埋め、この分野の国内機器の自律性を高めました。

報告によると、TG 300IFは上海精密半導体光学部門のトポグラフィー測定チームによって3年間かけて開発されました。チームは深い光学システム技術とソフトウェアとハードウェアの開発能力を備えており、多くの技術的課題を克服し、多くの重要なマイルストーンを次々と確立し、予定通りに機器を顧客に届けました。

半導体デバイスのサイズが縮小し続けるにつれて、ウェーハの反り、平坦度、表面形態の違いは、集積回路の製造プロセス、特にリソグラフィプロセスに特に大きな影響を与えるため、ウェーハ表面測定の需要は大幅に増加しています。28nmノードでは、高度なリソグラフィ光学システムの焦点深度が約100nmスケールに減少します。焦点深度が小さいと、ウェーハの平坦度とナノ形態学的変化に対する耐性が非常に厳しくなります。ウェーハの平坦度の微妙な違いは、リソグラフィの焦点深度（DOF）バジェットの最大50％を消費するため、ウェーハの平坦度と形態のパラメータをより厳密に制御する必要があります。

市場の需要の爆発的な増加に合わせて、また半導体分野での国内での代替を求める国の呼びかけに応えて、TG 300IFもこの傾向に従っています。このデバイスはナノスケールの平坦度測定精度を備えており、ウェーハ全体の数千万点を非接触かつ非破壊的に一度に測定でき、ウェーハの反り、平坦度、ナノ形態分布に関する情報を迅速かつ正確に取得できます。これにより、チップメーカーは高度な製造プロセスを備えたチップ検査用の高水準の測定ツールとなり、チップメーカーが深刻な課題に直接集中できるようになります。

さらに、TG 300iFには、上海精密テストセミコンダクターが独自に開発したシリコンの形態と平坦度のデータ分析および管理システムであるWaveLinkも搭載されています™グラフィカルインターフェースを介して2D/3Dシリコンの形態と平坦度情報を動的に表示できます。また、測定データの分類編集と管理機能も提供します。また、シリコンウェーハの形態のバッチ処理と再分析を完了するためのオフラインモードでの新しいレシピの定義をサポートします。また、シリコンウェーハの応力分布を取得するためのストレスモジュールも構成されており、テスト結果の出力カテゴリと出力タイプを柔軟に設定できます。同時に、マシン全体で共有されるデータベースシステム、WaveLinkをベースにしています™測定されたシリコンウェーハの結果もリアルタイムで更新でき、測定データをタイムリーに送信できます。さらに、WaveLink™顧客がデータを定量的に分析し、生産プロセスを最適化するのに役立つMSA（Measure System Analysis）機能も提供されています。

今回発売されたTG 300IF機器は、上海精密検査半導体研究開発本部の新しい機器製造拠点で組み立てられ、テストされました。上海精密試験セミコンダクターの研究開発本部は50エーカー以上の面積に及び、4つのグレードAのオフィスビルと清潔度の高い製造拠点で構成されています。これらはすべて年末までに使用され、上海の精密半導体事業の新段階の開発ニーズを満たすことが期待されています。

上海精密試験の関係者は、高品質の製品をスピードアップして発売し続けることが、上海精密試験半導体の不変の本来の意図であると述べました。同時に、同社はコアテクノロジーの自律制御可能な開発戦略に固執し、高度な半導体測定機器の分野を深く開拓し続け、顧客のニーズを満たすためにあらゆる努力を払い、上流と下流の産業資源と協力して国内の半導体機器産業の発展を共同で促進します。