格隆汇7月22日発表、晶合集成（688249.SH）が、光刻マスクはウェハー製造の光刻プロセスの重要部品で、主な役割は集積回路のデザイン図形を負荷し、光線透過によってデザイン図形を光刻レジスト上に移すことであり、集積回路サプライチェーンの重要な部分である。
晶合集成は、長期間にわたり高精度の光刻マスクの研究開発に取り組んでおり、この度、初の半導体光刻マスクを製造することに成功し、2024年第4四半期に正式量産を開始する予定です。量産後、晶合集成は28nmから150nmのプロセスの光刻マスクのサービスを提供し、光刻マスクの設計、製造、テスト、承認などを含む範囲のサービスを提供し、将来的に年間4万枚の生産能力を顧客に提供することが期待されています。