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光刻机(胶)概念24日主力净流出9.51亿元,晶方科技、张江高科居前

JRJ Finance ·  07/24 03:41

7月24日,光刻机(胶)概念下跌2.86%,今日主力资金流出9.51亿元,概念股7只上涨,69只下跌。

主力资金净流出居前的分别为晶方科技(1.69亿元)、张江高科(1.05亿元)、雅克科技(8851.15万元)、蓝英装备(7608.53万元)、南大光电(5903.07万元)。

これらの内容は、情報提供及び投資家教育のためのものであり、いかなる個別株や投資方法を推奨するものではありません。 更に詳しい情報
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