就新签订单结构方面，吕光泉对《科创板日报》记者表示：“公司新签订单主要包括PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD及键合设备等产品。”①PF-300T PlusとPF-300Mの設計は機器の生産能力をさらに向上させ、機械の生産能力は約20%から60%向上します；pXとSupra-Dの2つの新しい反応室は薄膜の堆積性能指標をさらに向上させます。 ②拓荆テクノロジーは2024年の上半期に日本に完全子会社を設立し、現在は他の海外市場を積極的に開拓しています。
《科創板日報》11月25日情報（記者邱思雨） 本日（11月25日）、拓荆テクノロジーは第三四半期の業績説明会を開催しました。
業績会では、拓荆テクノロジーの会長である呂光泉氏は「会社の2024年1-9月の出荷金額は前年同期比で160%以上増加し、また、会社は2024年第三四半期末の契約負債および在庫は前年第二四半期末と比較して良好な前期比較成長傾向を示しており、2024年第三四半期末までの受注が豊富であり、会社は2024年全体の新規受注の傾向は比較的楽観的である」と述べました。
新規受注の構造について、呂光泉氏は《科創板日報》記者に語りました。「会社の新規受注には主にPECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高アスペクト比のシリコン溝埋めCVDおよび結合装置などの製品が含まれています。」
上記の製品は拓荆テクノロジーの主要な運営製品であり、PECVD、ALD、SACVDの3つの製品シリーズは国内の14nm以上のプロセス集積回路製造ラインで広く使用されており、10nm以下のプロセス製品の検証テストも行われています。
会社は三四半期報告書で、報告期間中、新製品および新工程装置が顧客検証の段階で画期的な進展を遂げたと述べています。第三四半期の売上高は101.1億元で、前年同期比で44.67%増加しました。これは、新しい装置プラットフォーム（PF-300MおよびPF-300T Plus）および新反応室（Supra-D）に基づく多くの工程装置の収益が確定したためです。
「PF-300T PlusとPF-300Mの設計は機器の生産能力をさらに向上させ、機械の生産能力は約20%から60%向上します。」呂光泉氏は業績会で《科创板日报》記者に述べました。「pXとSupra-Dの2つの新しい反応腔を利用して、薄膜の均一性、粒度などの性能指標をさらに向上させ、技術ノードの更新イテレーション中における顧客の高生産性およびより厳密な薄膜性能指標への要求を満たすことができます。」
ただし、新製品および新工程の顧客検証プロセスのコストが比較的高く、関連する収入の比率が大幅に増加したため、同社の粗利率は段階的に低下しています。拓荆テクノロジーの前三四半期の粗利率は43.59%で、前年比で6.75ポイント低下しています。
その他、吕光泉氏は会議で次のように述べました：“当社が三次元統合領域向けに導入したハイブリッド接合シリーズ製品が実用化されました。これらの製品はすでに国際水準の同様の機器に達しています。”
海外マーケットでは、拓荆テクノロジーは2024年上半期に日本に完全子会社を設立し、現在は既に機器を日本に出荷しています。会社は決算説明会で、現在他の海外市場の積極的拡大を行っていると述べています。
