REVASUM (ASX:RVS) Annonce La Sortie D'un Kit De Conversion De 200 Mm Pour 6EZ, Sa Fameuse Plateforme De Polissage Mécanochimique (CMP) En Carbure De Silicium (SiC)
REVASUM (ASX:RVS) Annonce La Sortie D'un Kit De Conversion De 200 Mm Pour 6EZ, Sa Fameuse Plateforme De Polissage Mécanochimique (CMP) En Carbure De Silicium (SiC)
SAN LUIS OBISPO, Californie, 7 juillet 2023 /PRNewswire/ -- Revasum a annoncé aujourd'hui la disponibilité d'une capacité de polissage chimicomécanique pour les plaquettes de SiC de 200 mm sur la plateforme 6EZ. La 6EZ a déjà fait ses preuves en matière de fabrication à grande échelle de substrats de SiC de 150 mm, et un kit de conversion de 200 mm a été entièrement testé et lancé, offrant aux clients la possibilité de mettre à niveau les systèmes 6EZ sur le terrain.
圣路易斯奥比斯波，加利福尼亚州，2023年6月7日美通社/--Revasum一年一次的́aujedd‘hui la disponibilitéd’une Capacitéde Polissage ColicoméCanique Pour les Plplettes de SIC de 200 mm Sur la PlateForme 6 EZ。La 6EZ a déjàFit Fit Sieves en matrède factue èGrandéchelle de衬底de SIC de 150 mm，et un kit de转换de 200 mm a étéEntièEntie Testéet Lancé，Offant Aux Customers la Possibilitéde Metre àniveau les system èMES 6EZ Sur le地形。
Fred Sun, vice-président de la R&D et des technologies de traitement chez Revasum, a déclaré : « Bien que la 6EZ ait été conçue dès le départ pour polir les substrats de 200 mm, en raison de la rareté de ces substrats plus grands sur le marché, nous n'avions pas été en mesure de caractériser pleinement les performances de polissage sur les substrats de 200 mm jusqu'à récemment. L'outil a très bien fonctionné sur les plaquettes de 200 mm - nous avons atteint la même plage de fonctionnement PV (Pression x Vélocité) que nous avions observée précédemment sur les plaquettes de SiC de 150 mm, même avec un doublement de la surface à polir. »
弗雷德·孙，副́Sideent de la R&D et Des Technologies de Trareation chez Revasum，a déClaré：ébien que la 6EZ ait étéconçdèS le déPart Pour Polir les Subats de200 mm，en rason de la Raréde Ces衬底加Grands Sur le Marché，nous n‘avions Pas étéen measure de CaractéRiser pleinement les性能de Polissage sur de 200 mm̀récemment.̀‘outt a trèS bien functionnésur les plucettes de 200 mm-nous avons at la même plage de functionnement PV(Ppression x véLocité)que nous aviers tóe prerécédemes sul les plucettes de sic de Sic de 150 mm，même avec un Doublement de làPolir.vbl.)
La 6EZ est le premier outil de CMP à plaquette unique conçu pour le polissage des plaquettes de SiC. L'architecture de la 6EZ, associée à une technologie de refroidissement brevetée, permet une plus grande force d'appui et de plus grandes tables de vitesse, préférables pour le CMP de matériaux durs comme le SiC. La conception exclusive du support ViPRR sécurise la plaquette tout en minimisant le frottement de polissage sur la plaquette pour permettre un conditionnement réduit du tissu, une meilleure consistance plaquette-plaquette et un rallongement de la durée de vie des consommables.
这是一块独一无二的̀牌匾，独一无二的Conçu Pour le Polissage des Plaquettes de SIC。L的建筑́e à́e a e a refforidistion de refinidistion re vete e，Permet un再加上宏伟的力量和宏伟的桌面，Préférable Pour le CMP de MatéRiaux Durs Comme le Sic。La概念独家支持Viprr séCurise la Plucette Tout en Minimant le Foltement de Polissage Sur la Plucette Pour Permettre un Conditionnement réduit du Tissu，une meilleure consistance plucette et un rallongement de láe de vie des conomamble.
Scott Jewler, directeur général de Revasum, a déclaré : « Nous croyons que le polissage des plaquettes de SiC de première qualité nécessite une approche différente de la conception des têtes que les têtes à membrane conventionnelles. La tête de polissage doit maintenir la plaquette en position tout en appliquant une pression contrôlée à l'arrière de la plaquette pour produire un taux d'élimination élevé uniforme avec une bonne gestion thermique. Nous sommes très satisfaits des résultats obtenus avec la plaquette de SiC de 200 mm sur la 6EZ et je crois que nos clients apprécieront la facilité d'entretien de l'outil dans un environnement de production à volume élevé avec une plaquette de cette taille. »
斯科特·朱勒，́néral de Revasum，a déclaré：nous croyons que le polissage des plquettes de sic de Première Qualiténécessite une Approche De Différente de la Concept des tête que les têTes à膜惯例。La tête de Polissage doit Dit Maintiir la Placette en Posity Tout En an Applicant Un Press Contra Contrôlée àL‘Arède la Plucette Pour Produire un Tux d’éLimination éLevéUntaux d‘éLimimation éLevéUniform me Aec un Bonne Groumique.我们的̀́S满足了客户对200 mm Sur la 6EZ和200 mm Sur la 6EZ的需求，并满足了联合国环境保护部门的要求，生产了大量的́́牌。vbl.)
À propos de Revasum, Inc. :
Revasum se spécialise dans la conception et la fabrication de biens d'équipement utilisés dans le substrat semi-conducteur et le processus de fabrication de dispositifs. Notre portefeuille de produits actuel comprend la meuleuse 7AF-HMG et la plateforme de CMP 6EZ utilisée pour fabriquer des substrats en carbure de silicium jusqu'à 200 mm et l'emballage de dispositifs à base de SiC pour l'industrie mondiale des semi-conducteurs.
ÀPropos de Revasum，Inc.：
Revasum se spécialise dans ládebiens de biens d‘équipement Use UséS dans le衬底半导体等工艺的配置。新产品采用́e Pour Fabriquer de Silicium Just Qu‘à200 mm et L’embalpac de Dispac de SIC Pour L‘s Industrial Mondiale des Semductor de Semducteers的̀基板。
CONTACT : Bruce Ray, [email protected]
联系人：布鲁斯·雷，[受电子邮件保护]
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SOURCE Revasum
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