这里首先需要解释一下，佳能的纳米压印光刻（NIL）系统，与阿斯麦的光刻技术有什么区别。①与asmlホールディングの技術経路が異なるが、キヤノンのチップ製造装置は電路をリソグラフィの上に"押し込む"直接的な方法を採用しています。②この装置は伝統的なリソグラフィの10分の1の消費電力しか必要とせず、一度に成形された三次元回路などの利点もあります。③キヤノンは将来の3-5年間で年間10-20台の出荷を実現したいと考えています。
財経社9月27日（編集 史正丞）グローバルのリソグラフィのインダストリーグループはついに少し異なる新製品を迎えました−日本のキヤノン社が今週、新世代のナノインプリントリソグラフィを初の出荷に成功しました。
（出典：キヤノン社公式ウェブサイト）
ここではまず、キヤノンのナノインプリントリソグラフィ（NIL）システムとasmlホールディングのリソグラフィ技術の違いを説明する必要があります。
伝統的なリソグラフィ機は、回路パターンをリソグラフィ膜が塗布されたウエハに転写するために回路パターンを投影しますが、キヤノンの装置は"回路パターンが印刷されたマスクをスタンプのようにウエハに"リソグラフィ膜内に押し込む"方法でチップを製造します。 電路パターンの転送に光学機構が必要なく、マスク上の微細な電路パターンはウエハ上で忠実に再現されます。
昨年10月、グローバル初の商用ナノインプリントリソグラフィシステムFPA-1200NZ2Cを発表したキヤノンは、この装置で現在の先進的なロジック半導体製造に使用されている5ナノメートルノードに相当する最小線幅14ナノメートルの電路パターンを実現できると発表しています。
主要な利点はコストが安いことです
キヤノンによると、従来のリソグラフィに比べて、ナノインプリント装置の構造はよりシンプルで、消費電力はわずか1/10です。また、1回のインプリントで複雑な3D回路パターンを形成するだけでなく、最先端のロジックチップ用の超微細回路を処理することができます。
このチップ製造ラインの開発は2014年に起動しました。昨年末から、キヤノンはキオクシアと大日本印刷と協力して、この装置の販売を開始しました。
今回納入される初の装置は、米国のテキサス州にある電子研究所に送られます。これはテキサス大学オースティン校が支援する団体で、メンバーにはインテルや他の半導体企業、公共部門、学術機関が含まれています。この装置は、チップ製造の研究開発に使用されます。
キヤノンの光学製品担当執行役員である岩本一則氏はメディアに対し、同社は今後3〜5年で年に10〜20台のこの種の装置を販売する計画であると述べました。
キヤノンにとって、ナノインプリント技術のさらなる普及にはいくつかの課題があります。まず、インプリントの物理的メカニズムにより、この種のリソグラフィはチップの欠陥を防ぐためにさらに先進的な技術が必要です。また、チップ製造には幅広いインダストリーグループが関与しており、特に材料企業など、さらに多くの企業が「ナノインプリントインダストリーグループ」に参加することはキヤノンにとって非常に重要です。
