「NEXIV VMF-K」シリーズは、コンフォーカル光学系を搭載したモデルで、対象の二次元寸法に加え、高さ寸法の視野内一括測定が可能なことが特長です。高さ寸法の測定スピードの向上により、従来機種「NEXIV VMZ-K」シリーズと比較し、約1.5倍のスループット向上
發佈圖像測量系統「NEXIV VMF-K」系列
以高速、高精度測量二維和高度的尺寸
2024年12月5日新聞稿/報道資料
株式會社尼康的子公司，株式會社尼康解決方案將推出可以自動測量半導體元件及電子元器件等尺寸的圖像測量系統「NEXIV VMF-K」系列。
「NEXIV VMF-K」系列是搭載了共聚焦光學系統的型號，除了能夠測量目標的二維尺寸外，還可以在視野內一併測量高度尺寸。通過提高高度尺寸的測量速度，與傳統機型「NEXIV VMZ-K」系列相比，實現了約1.5倍的吞吐量提升※。
- ※根據公司規定的測量條件。
出售概要
| 商品etf名 | 圖像測量系統「NEXIV VMF-K3040」、「NEXIV VMF-K6555」 |
|---|---|
| 受閱開始時間 | 2024年12月 |
開發背景
隨着半導體元件的微細化和高集成化，保持其質量的檢測過程變得越來越重要。針對這些需求，尼康(adr)開發了能夠以高速和高精度測量微米級細微線寬的「NEXIV VMF-K」系列。
主要特點
1. 提高測量吞吐量
通過對光學系統的機械設計進行審查，提高了高度測量的掃描速度。這使得與傳統機型相比，吞吐量提高了約1.5倍。能夠高速且高精度地測量二維和高度尺寸，有助於電子設備中半導體元件的生產質量管理過程的效率化。
2. 新增高倍45倍模型
在傳統的30倍基礎上，新增了高倍的45倍模型。滿足半導體最先進先進封裝中對2μm以下微細電路線寬的測量需求。
3. 其他特徵
- 通過將共聚光源轉爲LED，提高了設備的使用壽命
- 符合半導體制造設備安全標準「SEMI S2/S8」的規範
- 增加了測量結束前的剩餘時間顯示功能
- 外觀採用黑色和銀色爲主調的工廠設計進行了全面更新
主要規格
請橫向滾動查看。
| 型號 | VMF-K3040 | VMF-K6555 |
|---|---|---|
| 行程 （X × Y × Z） | 300x400x150 毫米 | 650x550x150 毫米 |
| 精度保證質量 | 20 千克 | 30 千克 |
| 測量精度 （L爲測量長度（毫米）） | Eux，MPE Euy，MPE ±(1.2 + 4L/1000) μm Euxy，MPE ±(2.0 + 4L/1000) μm Euz，MPE ±(1 + L/1000) μm | |
| 光學倍率 | 1.5x/3.0x/7.5x/15x/30x/45x | |
| 視野 （共聚焦光學系統） | 1.5x：7.80x5.82 mm 3.0x：3.90x2.91 mm 7.5x：1.56x1.17 mm 15x：0.78x0.58 mm 30x：0.39x0.29 mm 45x：0.26x0.19 mm | |
| 視野※1 （明視野光學系） | 1.5x：7.80×5.85~0.52×0.39 mm 3.0x：3.90×2.92~0.26×0.19 mm 7.5x：1.56×1.17~0.10×0.078 mm 15x：1.26×0.95~0.099×0.074 mm 30x：0.63×0.47~0.052×0.039 mm 45x：0.63×0.47~0.052×0.039 mm | |
| 自動對焦 （明視野光學系） | TTL激光自動對焦/圖像自動對焦 | |
| 照明 （明視野光學系） | 1.5x/3.0x/7.5x/15x：透過、同軸落射、環形 30x/45x：透過、同軸落射 | |
| 供電電源 / 消耗電流 | AC 100V-240V ±10%, 50/60 Hz / 13A-10A | |
| 主體尺寸（W × D × H）/ 質量 | 1146x1247x1973 mm / 約800 kg | 1198x1640x1973 毫米 / 約800 千克 |
| 人形機器人-電機控制器尺寸（W × D × H）/ 質量 | 190x450x440 毫米 / 約14 千克 | |
| 推薦安裝尺寸（W × D）※2 | 3150x3000 毫米 | 3200x3300 毫米 |
| 最小安裝尺寸（W × D） | 2500x1600 毫米 | 2500x1900 mm |
- ※1電動5段變焦
- ※2包含我們推薦的維護空間。
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