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東京応化工業-5日ぶり反発 UVナノインプリントを用いたシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発

Trader's Web ·  Jan 29 01:24

東京応化工業<4186.T>が5日ぶり反発。同社は29日10時、UVナノインプリントを用いたシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発したと発表した。

同技術は、将来的には、シリコンフォトニクスを扱っている各ファウンドリの標準プロセスラインへのNIL導入も期待されるという。また、従来の露光法では難しい3次元露光も可能であり、それを積極的に利用した新たな光デバイスの実現も示唆されるとしている。

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