公開 2024年11月14日 ロジャー・ダッセン ビジネスモデルと資本配分戦略 ASML インベスターデイ ベルドホーフェン、オランダ 2024年11月14日 最高財務責任者 スモールトーク 2024 展示 99.7
公開 ビジネスモデルと資本配分戦略 テクノロジーのリーダーシップに対する我々の継続的な投資は、重要な株主価値を創造しています。 投資は価値を創造します この10年での大幅な成長機会を期待しています。 異なる市場とテクノロジーのシナリオに基づき、2030年までに以下の達成機会を見ています： • 年間売上高は約€440億から€600億で、粗利率は約56%から60% 市場とテクノロジーの機会 半導体の最終市場における成長と将来のノードに対するリソグラフィ投資の増加は、我々の製品とサービスへの需要を高めています。 市場の成長 我々の資金調達方針を確認します；堅固な資本と流動性構造を基に、ビジネスに継続的に投資し、配当と自社株買いを通じて株主に重要なキャッシュを還元することを期待しています。 資本配分と資金調達 重要なメッセージ 2024年11月14日
公開 2024年11月14日 ページ 5 継続的な成長 継続する株主価値の創造 歴史的な株主価値の創造
公開 ASMLのテクノロジーリーダーシップは、顧客のためのコスト効果のあるイノベーションを可能にする戦略的投資から来ています。 R&Dおよび設備投資への投資を通じた有機的成長 技術とキャパシティのための供給チェーンへの戦略的な買収と投資（カール・ツァイスSMt、ベルリン・グラス） 新ビジネス（HMI） ページ 6 * ASMLの貢献 ツァイスSMtの設備投資は2017年から含まれています ** 2024EはFY2024の数字の推定です 成長方法 R&D 設備投資 投資 2014 2015 2016 2017* 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024E** 1,1 1,1 1,1 1,3 1,6 2,0 2,2 2,5 3,3 4,0 4,3 0,4 0,4 0,3 0,4 0,6 0,9 1,0 0,9 1,3 2,2 1,9 1,4 1,4 1,4 1,6 2,2 2,9 3,2 3,5 4,6 6,2 6,2 ベルリン・グラスの買収 カール・ツァイスSMtホールディングの買収 24.9%の利益 HMIの買収 € b n (€1.0bn) (€2.8bn) (€0.3bn) 2024年11月14日
公開情報 ASMLのepsは、売上高の成長、マージンの改善、そして自社株買いによって、2014年以降年間平均成長率（CAGR）22%で成長しています
ページ7 システム（€億） 粗利率（%）インストールベース管理（€億） eps（€） • システムの売上高は2014年以降年間平均成長率（CAGR）18%で成長しました • インストールベース管理*は2014年以降年間平均成長率（CAGR）14%で成長し、増加するインストールベースのアップグレードとサービスによって推進されました • 粗利率は2014年の44%から50%以上に改善され、主にEUVの収益性の進展の結果であり、ビジネスの他の部分でも強いマージンを維持しています • 1株あたり利益（EPS）は2014年以降年間平均成長率（CAGR）22%で成長し、収益性と自社株買いによって推進されています * インストールベース管理は、当社のネットサービス及びフィールドオプション販売に等しい ** 2024EはFY24の中間ガイダンスです
成長ドライバー 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024E** 4.2 4.2 4.6 6.4 1.6 2.1 2.2 2.75.9 6.3 6.8 9.1 10.9 2.7 8.3 11.8 2.8 10.3 3.7 9.0 14.0 18.6 5.0 13.7 15.4 5.7 21.2 5.6 27.6 28.0 21.9 6.2 21.8 14.14 2.74 3.22 3.46 4.93 6.10 6.16 8.49 14.36 19.91 44% 46% 45% 45% 46% 45% 49% 53% 51% 51% 51% 収益/粗利率/eps 2024年11月14日
公開情報 ASMLは2010年から2024年の期間にわたり、重要な株主価値を創出しました
ページ8 総株主リターン（TSR）年率換算： • ASML（ナスダック）: 23% • 半導体index - SOX 22% • テクノロジーindex - ナスダック 17% 出典: Bloomberg（総株主リターン: index = 2010） 総株主リターン（TSR）= 株価の上昇 + 配当金の支払い 2024*: グラフには2024年11月6日までのデータが含まれています 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024* ASML（ナスダック） NASDAQ S&P 500 SOX AEX 総株主リターン 1,500 1,000 500 0 3,000 2,500 2,000 3,500 4,000 2010 2011 2012 2013 2024年11月14日
公開情報 2024年11月14日
ページ9 継続的な株主価値の創出 歴史的な株主価値の創出 継続的な成長
公開情報
ページ10 当社のインストールベース事業の成長を見積もる インストールベース管理 モデルの仮定 市場を開始し、グローバルなリソグラフィ支出に変換し、ASMLのシェアに変換 リソグラフィ支出 ウェーハ需要に変換: 高 – 中程度 – 低のシナリオ ウェーハ需要 市場シナリオ → 高 → 中程度 → 低 2030年 モデルのシナリオ 2024年11月14日
公共半導体の売上は、2025年から2030年までの間に年平均成長率9％で成長し、2030年までに1兆ドルを超えると予想されています。サーバー、データセンター、ストレージの成長が急増し、他のほとんどの分野での緩やかな調整を相殺します。
ページ11
スマートフォン（$bn）
有線および無線インフラ（$bn）
自動車（$bn）
パーソナルコンピューティング（$bn）
サーバー、データセンターおよびストレージ（$bn）
産業用電子機器（$bn）
家電製品（$bn）
合計半導体（$bn）
149
158
157
162
177
192
25
26
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29
30
CMD 2022
CMD 2024
5％
92
100
100
101
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112
25
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6％
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3％
76
84
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9％
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25
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7％
679
749
791
845
941
1051
25
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9％
156
188
211
243
296
361
25
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18％
CMD 2022
CMD 2024
CMD 2022
CMD 2024
CMD 2022
CMD 2024
CMD 2022
CMD 2024
CMD 2022
CMD 2024
CMD 2022
CMD 2024
CMD 2022
CMD 2024
CMD 2022
CMD 2024
2024年11月14日
出所：ASML分析
公共ウェーハ容量は、ウェーハ需要および戦略的考慮によって推進されると考えています。その結果、2030年までに需要駆動の追加に加えて、全体の容量が5-8％増加すると予想しています。
ページ12
• テクノロジーの主権が、国や地域がファブのフットプリントを（再）獲得しようとする結果、設置容量の使用効率が低下しています。
• サプライセキュリティへの強調が増し、地理的に多様化した所有プロファイルを生み出し、結果として負荷分散がより困難になります。
• 競争の激化は、プレーヤーが市場シェアを獲得しようとすることで過剰供給の期間をもたらす可能性があります。
戦略的考慮
ウェーハ容量：月あたりのウェーハスタート数（Mwspm）
11.2
15.1
2025
2030
5％
5-8％成長
2025-2030年（Kwspm/年）
合計ウェーハ需要
780
戦略的考慮
85
合計ウェーハ容量
865
2024年11月14日
出所：ASML分析
公共の先進的ロジックおよびDRAMの縮小は、さらなるレイヤーおよび支出を推進すると予想されています。露光の増加は、ウェーハのボリュームと相まって、二桁のEUV支出の年平均成長率をもたらします。
ページ13
先進ロジック：平均EUV露光数*
EUVリソグラフィ支出の年平均成長率（2025-2030）：10-20％
2024年11月14日；*
出所：ASML分析；*
EUV露光は0.33NA相当であり、0.33NA露光の比率が1の0.55NA露光を含む場合もあります。
2025
2030
19-21
25-30
DRAM：平均EUV露光数*
EUVリソグラフィ支出の年平均成長率（2025-2030）：15-25％
2025
2030
5
7-10
4-6
期待される平均高NA（0.55NA）露光数
2-3
期待される平均高NA（0.55NA）露光数
公共市場シェアの前提条件：EUV 100%、ArF浸漬90%、ドライ65% モデル前提 2030年 ページ14 高度なロジック（≤ 7nm）DRAm NAND市場 低 - 高 トランジスタCAGR（2025-2030）： • 低：28% • 高：36% ビットCAGR（2025-2030）： • 低：18% • 高：26% ビットCAGR（2025-2030）： • 低：22% • 高：30% テクノロジー低 - 高 • 高性能と低消費電力設計のブレンド • 2026年からのEUV高NAの高ボリューム • 25-30のEUV露光*（そのうち4-6は高NA） • 4F2と6F2設計のブレンド • 2026/2027年からのEUV高NAボリューム • 7-10のEUV露光*（そのうち2-3は高NA） • 3D NAND：スタックされたスタックおよびCMOS結合アレイ リソ 請求額の支出 低 – 高 • EUVリソグラフィ支出CAGR（2025-2030）：10-20% • EUVリソグラフィ支出CAGR（2025-2030）：15-25% 2024年11月14日 出典：ASML分析； * EUV露光は0.33NA相当、0.55NA露光を含めることもできます。
公共インストールベース管理* 成長するインストールベースは、サービスおよびアップグレードにおける2桁成長の機会を提供します • 成長するインストールベース人口 • サービス：価値ベースのサービスへの移行 • アップグレード：拡張性を考慮した設計、現場での性能向上を可能にします ページ15 * インストールベース管理は純サービスおよびフィールドオプションの販売に等しい ~14% CAGR 3.7B€ ~6.2B€ 11-13B€ ガイダンス範囲エリア ~13% CAGR 2020 2024 2030 成長ドライバー：インストールベース管理：サービスおよびアップグレード 2024年11月14日
公共 2030年までに44B€から60B€の総販売機会をモデル化しています 総販売機会（€bn単位） ページ16 * M&I ：計測と検査 ** インストールベース管理は純サービスおよびフィールドオプションの販売に等しい 高シナリオ EUV販売 32 32 非EUV販売（リソグラフィおよびM&I*） 15 15 インストールベース管理** 13 13 総計 60 60 中程度のシナリオ EUV販売 26 非EUV販売（リソグラフィおよびM&I*） 14 インストールベース管理** 12 総計 52 低シナリオ EUV販売 22 22 非EUV販売（リソグラフィおよびM&I*） 11 11 インストールベース管理** 11 11 総計 44 44 CMD 2024販売 2030 CMD 2022では報告されていません ロジック： CMD 2022と比較して、 • 高度なノードウエハ需要はやや高く、ノードのタイミングのシフトに相殺される • 戦略的追い風、特にファウンドリー競争は低下 • 主流ノードのウエハ需要はやや低下 メモリ： CMD 2022と比較して、 • HPC/AIによりDRAmウエハ需要が高くなる • 複数から単一のパターニングEUV（0.33 NAおよび0.55 NA）へのシフト • NANDウエハ需要は低下 これらのドライバーの組み合わせにより、CMD 2022で示されたのと同様の販売見通しが得られ、44B€ - 60B€の範囲になります CMD 2022販売 2030年の販売機会の主要なドライバーは： 2024年11月14日
Public Gross margin development potential FY25 – FY30 Page 17 • EUV: volume growth and increased productivity in 0.33 NA systems positively impacting the overall Gm. The volume growth in the 0.55 NA systems has a small dilutive effect on the overall Gm • Non-EUV: Gm increase is predominantly driven by the increase in volume. This positive Gm impact is partly offset by a change in product mix (more DUV dry systems). • IBM*: Gm increase due to growth in installed base and move towards more value- based services and upgrades * IBm = Installed Base Management, equals our net service and field option business Margin growth drivers ASML 2025 – 2030 Gross margin bridge (mid-point to mid-point guidance) ~58% 2030 Gross margin % ~52% 2025 Gross margin % FY30 GM%IBM*Non-EUVEUVFY25 GM% 2025-2030 GM% development ~4% ~1% ~1% November 14, 2024
Public ASML updated financial model 2030 Rounding differences may occur as these numbers / percentages are rounded to 1 decimal * Installed Base Management equals our net service and field option sales ** Cash Conversion Cycle is the sum of: accounts receivable, finance receivables, contract liabilities (including customer down payments); all divided by total net sales * 365 days. Accounts payable, inventories and vendor advance payments; all divided by total cost of sales * 365 days. *** Estimated Effective Tax Rate is based on 2024 tax legislation, and currently expected changes Latest estimate CMD 2022 Low - High market CMD 2024 Low - High market 2024 2030 2030 Total sales 28.0€bn ~44 – 60€bn ~44 – 60€bn Installed Base Management* 6.2€bn ~11 – 13€bn ~11 – 13€bn System sales 21.8€bn ~33 – 47€bn ~33 – 47€bn Gross margin ~50.6% ~56% – 60% ~56% – 60% R&D 4.3€bn (15%) ~6.0 – 6.6€bn ~6.0 – 6.6€bn SG&A 1.1€bn (4%) ~1.6€bn ~1.7 – 1.9€bn Capex 1.9€bn (7%) ~1.5€bn ~2.5€bn Cash Conversion Cycle** <200 days <200 days <200 days Effective Tax Rate*** 16-17% ~16.5% ~17% November 14, 2024 Page 18
Public November 14, 2024 Page 19 Flexible workforce Employees Additional flexibility through the hour bank and other measures D&E Fix labor and other costs D&E Flex labor and farm-out Own personnel Flex workers Outsourced R&D R&D spend Systems Cost of Goods (COG) at Standard, composition Majority of systems COG is externally sourced 95% 5% 2023 78% 22% 2023 13% 87% 2023 We are and remain flexible in our operating model to deal with the industry volatility and uncertainties Labor Materials
公開 2024年11月14日 ページ20 歴史的な株主価値の創出 継続的な成長 継続的な株主価値の創出 ページ20
公開 ページ21 資本配分と資金調達へのアプローチ ビジネスへの集中投資を、強く柔軟なバランスシートでサポート 資本配分 • ASMLの長期計画を実行するための投資 • 株主へのキャッシュリターン • 時間とともに成長する持続可能な1株あたり配当金、四半期ごとに支払い • 自社株買いを通じて余剰キャッシュを株主に還元 資金調達 • ビジネスの継続的な成長を確保し、キャッシュフローの変動に対するバッファを提供するために、十分な流動性を維持 • 堅実な投資適格信用格付けを目指す資本構造を維持 2024年11月14日
公開 ページ22 資本配分へのアプローチ 継続的な株主価値の創出 R&D Capex 累積自社株買い 累積配当 *ASMLのZeiss SMtのcapexへの貢献は2017年から含まれています **2024EはFY2024の推定値 ビジネスへの集中投資 R&D、Capexを通じて 株主へのキャッシュリターン 2014 2015 2016 2017* 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024E** 1.1 1.1 1.1 1.3 1.6 2.0 2.2 2.5 3.3 4.0 4.3 0.4 0.4 0.3 0.4 0.6 0.9 1.0 0.9 1.3 2.2 1.9 1.4 1.4 1.4 1.6 2.2 2.9 3.2 3.5 4.6 6.2 6.2 4.4 4.9 5.3 5.8 7.0 7.4 8.6 17.2 21.8 22.8 23.3 1.1 1.4 1.9 2.4 3.0 4.3 5.4 6.7 9.3 11.1 13.5 5.5 6.4 7.2 8.2 10.0 11.7 14.0 23.9 31.1 33.9 36.8 2014年以前は 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024E** HMI買収（€2.8億） カール・ツァイスSMtホールディング買収 24.9%の利子（€1.0億） ベルリーナーグラス買収（€0.3億） [€ b n ] [€ b n ] 株主へのキャッシュ還元を、増加する配当と自社株買いの組み合わせを通じて継続することを期待しています 2024年11月14日
公開 ビジネスモデルと資本配分戦略 テクノロジーのリーダーシップへの継続的な投資が、重要な株主価値を創出しています。 投資が価値を創造する この10年間で大幅な成長機会が期待されます。 異なる市場とテクノロジーのシナリオに基づき、2030年までに以下の達成の機会を見込んでいます: • 年間売上高は約€440億から€600億、粗利率は約56%から60%まで 市場とテクノロジーの機会 半導体の最終市場での成長と、将来のノードへのリソグラフィ投資の増加が、当社の製品とサービスへの需要を促進します。 市場の成長 資金調達ポリシーを確認しました。堅実な資本と流動性構造に基づき、ビジネスへの投資を続け、増加する配当と自社株買いを通じて株主に大きなキャッシュを還元することを期待します。 資本配分と資金調達 主要メッセージ ページ23
公開の将来展望に関する声明
この文書および関連する議論には、1995年の米国の私的証券訴訟改革法の意味における将来を見越した声明が含まれており、戦略、計画、予想される傾向、エンドマーケットおよびテクノロジー業界、ビジネス環境の傾向、AIの出現、その潜在的な機会と半導体業界に対する期待、計算能力、先進的なロジックノード、DRAMメモリに関する声明、モーアの法則および2030年までのトランジスタ成長の期待、グローバルマーケットのトレンド、テクノロジー、製品、および顧客ロードマップ、長期的な見通しおよび期待されるリソグラフィと半導体業界の成長と傾向、2030年以降の半導体売上高と半導体市場機会の成長、ウエハ需要およびキャパシティの成長と追加のウエハキャパシティ要件、顧客による投資（当社のテクノロジーおよびウエハキャパシティへの投資を含む）、キャパシティを増加させる計画、リソグラフィ支出の成長、サービスとアップグレードの成長機会、インストールベース管理の売上の成長機会、全体的なリソグラフィビジネスにおける成長と粗利率、アプリケーション製品の期待されるアドレス市場、インストールベースの拡大による期待と利益、ASMLおよびそのサプライヤーのキャパシティ、システムの期待される生産、2030年向けのモデルシナリオと更新モデル、年間売上高および粗利率の機会と2030年向けの開発ポテンシャル、見通しおよび期待されるモデルまたは潜在的な財務結果（売上機会、粗利率、R&Dコスト、SG&Aコスト、設備投資、キャッシュコンバージョンサイクルおよび2030年の年間効果的な税率）、およびその期待されるモデルまたは潜在的な金額の前提およびドライバー、ビジネスおよび財務モデルの他の前提、半導体エンドマーケットにおける期待される傾向、見通しおよび成長の機会、需要および需要のドライバー、DUV EUV、High NA、Hyper NA、アプリケーションおよび生産性とコストに影響を与えるその他の製品に関する技術革新の期待される機会と成長ドライバー、トランジスタの寸法、ロジックおよびDRAMの縮小、ファウンドリー競争に関する声明、配当および自社株買いに関する声明および資本返還方針、成長する配当および買戻しを通じて株主に大規模な現金を返還する期待を含むエネルギー生成および消費の傾向、エネルギー効率、排出削減および温室効果ガス中立目標の達成に向けた目標日、オペレーションからのゼロ廃棄物およびその他のesg目標および野心、esgにおけるリーダーシップを維持する計画、全世界におけるテクノロジーの主権を高め、半導体売上高への期待される影響、特定の国の目標、ファウンドリービジネスにおける競争の激化、2024年の見積もり、およびその他の非歴史的な声明を含む。これらの声明は、通常、「may」、「will」、「could」、「should」、「project」、「believe」、「anticipate」、「expect」、「plan」、「estimate」、「forecast」、「potential」、「opportunity」、「scenario」、「guidance」、「intend」、「continue」、「target」、「future」、「progress」、「goal」とその変種や類似の言葉の使用によって識別できます。これらの声明は歴史的事実ではなく、現在の期待、見積もり、仮定、モデル、ビジネスおよび将来と潜在的な財務結果に関する機会および予測に基づいており、読者はそれに対して過度の信頼を寄せるべきではありません。将来を見越した声明は、将来のパフォーマンスを保証するものではなく、数多くの知られたおよび未知のリスクと不確実性を伴います。これらのリスクと不確実性には、顧客の需要、半導体機器業界のキャパシティ、全世界の半導体および半導体製造能力、リソグラフィツールの利用率および半導体在庫水準、半導体業界およびエンドマーケットにおける一般的な傾向と消費者信頼度、一般的な経済条件の影響（半導体業界への現在のマクロ経済環境の影響を含む）、市場回復に関する不確実性（そのタイミングを含む）、インフレの影響、interest rates、戦争および地政学的な発展、パンデミックの影響、システムのパフォーマンス、技術の進展の成功および新製品開発のペース、顧客による新製品の受け入れと需要、需要に応じてキャパシティを調整する我々の生産能力、サプライチェーンのキャパシティ、部品および部品、原材料、重要な製造設備、適格な従業員のタイムリーな入手、需要を満たすためのシステムを生産する能力、注文されたシステムの数とタイミング、売上として認識されたシステム、純予約の変動に関するリスクおよび予約を販売に変換する能力のリスク、注文のキャンセルまたはプッシュアウトに関するリスクおよび輸出管理下での注文したシステムの発送に制限を課すリスク、技術、製品および顧客のロードマップおよびモーアの法則に関連するリスク、貿易環境、輸入/輸出および国家安全保障規制および命令、これらが我々に与える影響（輸出規制の変更の影響および必要なライセンスの取得と特定の顧客へのシステムの販売およびサービス提供の能力への影響を含む）、為替レートの変動、税率の変更、利用可能な流動性およびフリーキャッシュフローおよび流動性要件、債務の再融資能力、配当支払いおよび自社株買いに影響を与える他の要因、当社の自社株買いプログラムの下で再購入する株式の数、特許を強制し知的財産権を保護する能力、知的財産に関する紛争および訴訟の結果、esg目標を達成しesg戦略を実行する能力、ASMLのビジネスまたは財務結果に影響を与える他の要因には、実際の結果がモデル、ポテンシャルおよび2030年およびその他の将来の期間における機会と大きく異なるリスクが含まれ、その他のリスクはASMLの2023年12月31日終了の年次報告書のフォーム20-Fおよび米国証券取引委員会へのその他の提出書類に含まれているリスク要因に示されています。これらの将来を見越した声明は、文書の日付時点にのみ行われています。この報告書の日付以降に将来を見越した声明を更新する義務は負わず、法律で要求される場合を除き、実際の結果や改訂された期待に合わせてこれらの声明を調整する義務は負いません。この文書および関連する議論には、特定のエネルギー効率および温室効果ガス排出削減目標の達成に向けたアプローチと進捗に関する声明が含まれており、温室効果ガス中立の達成に向けた野心を含みます。「温室効果ガス中立」とは、ASMLがGHG排出削減目標を達成するために行った努力の後に残る排出量を、認められた品質基準に対して検証された同量のメトリックトンの炭素クレジットで補償することを意味します。
公表 2024年11月14日 ページ25 ありがとうございます